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当前位置:水处理she备chang家 >> 水处理gongcheng >> 10t/hRO+EDIshe备
10t/hRO+EDIshe备

 

1)EDI(Electro-de-ionization)shi一种将离子jiao换ji术、离子jiao换moji术和离子电迁移ji术(电shen析ji术)相jie合de纯水制造ji术。该ji术利用离子jiao换能深du脱盐来克fu电shen析极化er脱盐不彻底,又利用电shen析极化er发生水电离产生H和OH离子实现树脂自再生来克fu树脂shi效后通过化学药剂再生de缺陷,shi20世纪80年代yi来zhu渐兴起de新ji术。jing过十几年de发展,EDIji术已jing在bei美及ouzhouzhan据了相当bu分de超纯水市场。EDI装置属于jing处理水系统,一般多与反shen透(RO)配合使用,,zu成预处理、反shen透、EDI装置de超纯水处理系统,,取代了chuan统水处理gong艺de混合离子jiao换she备。EDI装置进水要求为电zu率为0.025-0.5MΩ·cm,反shen透装置完全可yi满足要求。EDI装置可生产电zu率gao达18MΩ·cmyi上de超纯水
2gong作原理
一般自ran水源zhong都hui存在钠、钙、镁、聄an?铩⑾跛嵫巍?an酸氢盐等溶解物。这xie化合物youdaifu电荷deyin离子和dai正电荷de阳离子zu成。通过反shen透预处理,you95%-99%yi上de离子可yi被去除。反shen透产水de电zu率一般fan围shi0.05-1.0M?·cm,即反shen透产水电导率de一般fan围为20-1µS/cm。根据在实际ying用de情况,EDI电去离子产pin水电zu率defan围一般为5~18.2 MΩ·cm。另外,原水zhongye可能包括qi它微量元素、溶解de气体(如CO2)和一xie弱电解质(如硼、二氧化硅等),这xieza质在gong业除盐水zhong必须被除掉。danshi反shen透预处理秡a谡鈞ieza质de清除效果较cha。因ci,EDIde作用jiushi除去电解质(包括弱电介质),将水de电zu率从0.05~1.MΩ·cm提gao到5~18.2 MΩ·cm。
3EDIshe备you点
   Awu需酸碱再生,wu化学药剂使用,wu酸碱废水舘u牛???齝hengwu任何污染,属清洁生产
   Bwu需停机再生,连续生产水质稳定degao纯水
   C运行稳定可靠,降低运行和维xiu费用
   Dwu需派专门人员看守,易于实现she备自动化kong制
   Eshe备zhan地面ji小,减少che间建she面ji,jie约场地建she费用投譻hengⅫ/span>
   F、kong制系统可根据用户ju体使用要求进行个性化she计,jie合先进dekong制ruan件,现场在线集zhong监kong重要gong艺cao作参数,避mian人gong误cao作,多fang位que保系统长期稳定运行。
4)基本型EDIshe备配置
EDI增ya泵一台;
EDI稳ya稳流电源一台;
泵后止回阀一个;
进水合格/不合格三通阀一个;
进水低ya保护开guan;
EDI产水电zu率仪一台;
EDI浓水电导率仪一台;
EDI进水ya力表一个;
EDI产水ya力表一个;
EDI浓水ya力表一个;
EDI进水流量计一个;
EDI产水流量计一个;
EDI浓水流量计一个;
tan钢喷qi半封闭蔶iao?芤惶āⅫ/span>
5)使用条件
   在一级/二级反shen透纯水条件xia,qi产水水质可达到实yan室分析I级用超纯水biaozhun。
6)ying用lingyu
A制药行业、微电讁ou幸怠⒎⒌鏶ong业和实yan室。
B在表面清xi、表面涂装、电解gong业和化gonggong业deying用ye日趋广泛。
C半导体材liao、器件、印刷电lu板和集成电lu;
D、超纯材liao和超纯化学试剂;
E、实yan室和zhong试che间;
F、汽che、家电表面抛光处理;
G、光电产pin;
H、qitagaokejijing微产pin
6EDIshe备安装要求

(1)wu须专zuo安装基础,地基坚实水平即可
(2)入水水ya如低于0.2 Mpa需加装管道泵
(3)使用前需先冲xi管道,避mianza质dusai阀体,污染树脂
(4)不可用加碘盐、加钙盐作再生剂,定期向盐guan加盐,que保盐水饱和浓du(ying保证溶解时间 不小于六小时)。

上一章:3m3/h 18MΩ超纯水系统

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